Dit is een bestand van Wikimedia Commons. Onderstaande beschrijving komt van de beschrijving van het bestand daar. Commons is een vrij-gelicenceerde database voor afbeeldingen, geluid, video en andere bestanden.
Beschrijving
BeschrijvingEUV photoelectrons and secondaries (vector).svg
English: Top: EUV multilayer and absorber (purple)constituting mask pattern for imaging a line. Bottom: EUV radiation (red) reflected from the mask pattern is absorbed in the resist (amber) and substrate (brown), producing photoelectrons and secondary electrons (blue). These electrons increase the extent of chemical reactions in the resist, beyond that defined by the original light intensity pattern. As a result, a secondary electron pattern that is random in nature is superimposed on the optical image. The unwanted secondary electron exposure results in loss of resolution, observable line edge roughness and linewidth variation. Refs.: N. Felix et al., Proc. SPIE 9776, 97761O (2016); A. Saeki et al., Nanotech. 17, 1543 (2006); T. Kozawa et al., JVST B 25, 2295 (2007).
Delen – het werk kopiëren, verspreiden en doorgeven
Remixen – afgeleide werken maken
Onder de volgende voorwaarden:
naamsvermelding – U moet op een gepaste manier aan naamsvermelding doen, een link naar de licentie geven, en aangeven of er wijzigingen in het werk zijn aangebracht. U mag dit op elke redelijke manier doen, maar niet zodanig dat de indruk wordt gewekt dat de licentiegever instemt met uw werk of uw gebruik van zijn werk.
Gelijk delen – Als u het werk heeft geremixt, veranderd, of erop heeft voortgebouwd, moet u het gewijzigde materiaal verspreiden onder dezelfde licentie als het oorspronkelijke werk, of een daarmee compatibele licentie.